TIN(氮化钛)涂层
TiN是一种通用型PVD涂层,具有较高的是相当稳定的化合物,可以提高刀具/工具硬度并具有较高的氧化温度。该涂层用于高速钢切削刀具或成形工具可获得很不错的加工效果。
氮化钛涂层及其烧结体具有令人满意的金黄色,可作为代金装饰材料,具有很好的仿金效果、装饰价值,并具有防腐、延长工艺品的寿命。图层种类涂层颜色涂层厚度纳米硬度摩擦系数应用温度TiN金黄色1-5μm2300HV0.3(对钢材)600℃主要特点标准涂层,通用性很好,有较高的氧化温度,
在中低速及切削阻力较小的切削加工、冲压、注塑模具及零部件等方面有广泛应用。应用范围1.精密模具:镜面模具、注塑模具、冲压模具、拉伸成型模具、剪切冲头及各类模具部件,如滑块、顶针等
2.切削刀具:钻头、铣刀、丝锥、滚齿刀、刨齿刀、剃齿刀、拉刀、圆锯片、舍弃式刀片等刃具
3.量具:游标卡尺、卡规、量规、塞规、千分尺等
4.汽车工业:活塞环、柱塞等
卷绕式镀膜机
高真空卷绕式镀膜设备 - 卷绕式蒸发镀膜机
鼎益真空机械设备生产的卷绕式真空镀膜设备具有高真空获得能力,能够进行PET、PI等柔性薄膜材料的高精度往复卷绕传输,通过人机对话的形式来实现系统的工作数据显示、操作与控制,以实现真空系统的全自动预热操作,抽气和冷泵作业、红外线加热等。
设备特点:
本设备对柔性基体材料传动主辊、收卷辊、放卷辊的驱动装置采用司服电机进行调速,汕尾真空镀膜设备,配合其张力传感器、来实现薄膜传输过程中收放卷卷绕的恒张力自动控制。本设备的镀膜主辊配备了-套快速的真空镀膜加热装置,该装置用于在进行真空镀膜操作时将镀膜主辊表面加热至镀膜工艺要求的温度,用以加热被镀的基体材料。本设备在真空工作室内装有一套大面积的低温冷冻盘管,玻璃真空镀膜设备,利用进口低温深冷系统以抽除真空室水汽。主机含一套离子源系统,对膜层进行改性处理,含水冷和充气系统,均匀性高。可根据工艺要求配置MF孪和DC阴极系统。真空室的结构为一卧式半圆柱形简体,真空室整体采用304不锈钢制造。真空室正/反面各配有矩形观察窗1个,真空镀膜设备厂家,用以观察基体材料卷绕以及镀膜效果;侧面配有圆形观察窗可以辅助观察基体材料开卷及镀膜情况。卷绕系统由基体材料卷绕装置和移动动力小车等组成。基体材料卷绕装置由放卷装置、镀膜主辊、收卷装置和部分导辊以及安装这些辊系的大、小墙板等部件组件组成。采用司服电机进行调速,配合其张力传感器、来实现镀膜过程中收放卷卷绕的恒张力自动控制;系统带有基体材料预紧(防松卷)等功能。真空抽气系统采用分子泵、国产油扩散泵做为排气主泵,保证镀膜所需的的真空度。
磁控溅射电源
从输出波形看,伴随着磁控溅射技术本身的发展,经历了直流、单极性脉冲、对称双极性脉冲(中频磁控溅射电源)和双极性脉冲(非对称中频磁控溅射电源)几种方式。目前,卷绕式真空镀膜设备,新的磁控溅射电源基本上都采用高频逆变开关电源技术制造,中频磁控溅射电源已成为新的磁控溅射设备的电源。为了准确控制膜层厚度,磁控溅射电源必须稳定工作,并具有较好的恒定特性。目前,主要采用恒流方式,也有采用恒功率方式的,采用恒压方式。另外,磁控溅射镀膜技术具有的一个显著优点是膜层致密、光洁度较好。要实现该优点,必须严格限制磁控溅射过程中靶表面的打火次数和每次打火的能量,尽量减少打火瞬间造成的宏观靶材粒子数量,它们会降低膜层的致密性和光洁度,严重时会造成掉膜。
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